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納米壓印機在日常使用中具有眾多特征

更新時間:2024-03-27  |  點擊率:1467
  納米壓印機具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng),支持尺寸從碎片到最大150毫米。
 
  該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。納米壓印機提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求,因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。

  對于壓印工藝,本產品允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括印章的釋放機制。本產品專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現(xiàn)高產量的壓印,該卡盤設計既支持軟印章也支持硬印章。
 

 

  納米壓印機的使用特征:
  1、頂部和底部對準能力;
  2、高精度對準臺;
  3、自動楔形誤差補償機制;
  4、電動和配方控制的曝光間隙;
  5、支持最新的UV-LED技術;
  6、最小化系統(tǒng)占地面積和設施要求;
  7、分步流程指導;
  8、遠程技術支持;
  9、多用戶概念;
  10、敏捷處理和光刻工藝之間的轉換;
  11、臺式或帶防震花崗巖臺的單機版。
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