當(dāng)前位置：首頁 > 技術(shù)文章
主動減震臺作為精密儀器（如掃描電子顯微鏡、原子力顯微鏡）的核心支撐設(shè)備，通過實時監(jiān)測與動態(tài)補(bǔ)償技術(shù)，可有效隔離地面振動（頻率范圍0.5-200Hz），將振動干擾降低至微米級甚至納米級。其安裝質(zhì)量直接影響減震效果與儀器穩(wěn)定性，以下為分步安裝指...
奧地利EVGroup（EVG）宣布，為形成手機(jī)用相機(jī)模塊高耐熱鏡頭，芬蘭HeptagonOy采用了EVG的光刻機(jī)(MaskAligner)“IQAligner”。EVG高級副總裁HermannWaltl表示，Heptagon采用的是支持300mm晶圓的裝置。該裝置已提供給Heptagon的制造子公司——新加坡HeptagonMicro-OpticsPte。Heptagon是于1993年成立的風(fēng)險企業(yè),目的是將芬蘭赫爾辛基大學(xué)與瑞士約恩蘇大學(xué)的微型光學(xué)元件的研究成果投入實用。該...
在微電子、納米、半導(dǎo)體領(lǐng)域為晶片接合和光刻技術(shù)提供設(shè)備技術(shù)方案的供應(yīng)商EVG近期推出了NT系列光刻機(jī)和對準(zhǔn)測試機(jī)，這是一個全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗證過的新型光刻曝光機(jī)以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和測試系統(tǒng)，可滿足用戶對更高光刻精度的需求。業(yè)內(nèi)向更小結(jié)構(gòu)和更密集封裝生產(chǎn)轉(zhuǎn)型的趨勢帶來了眾多的新挑戰(zhàn)，如對更高精度的要求，因為這將嚴(yán)重影響設(shè)備的偏差律，并最終影響生產(chǎn)效率和增加成本。新的EVGNT系列光刻機(jī)對準(zhǔn)機(jī)可極大提高對準(zhǔn)精度-范圍從1微米至0.1微米-從而為生產(chǎn)廠家在先進(jìn)微...
一、簡介第四次工業(yè)革命以數(shù)年前尚不存在的技術(shù)席卷了我們的生活，其中一些在幾十年前甚至無法想象。自動駕駛汽車已經(jīng)在公共街道上進(jìn)行測試；無人機(jī)正在調(diào)查地形，拍攝視頻，派發(fā)包裹；由專業(yè)人士和業(yè)余愛好者創(chuàng)建的大量視頻內(nèi)容正在被拍攝和發(fā)布；固定和移動監(jiān)視變得司空見慣；服務(wù)器的體量變得驚人的龐大，4G網(wǎng)絡(luò)正在被5G補(bǔ)充或替代。所有這些趨勢的共同之處在于，它們生成的大量數(shù)據(jù)必須比以往任何時候更快、更可靠地進(jìn)行處理、傳輸和存儲。上述這些新應(yīng)用中，許多將需要高級邏輯器件來實現(xiàn)更高的功耗和處理速...
納米壓印光刻系統(tǒng)制造商SwissLithoAG今天宣布一種聯(lián)合解決方案，可以生產(chǎn)最小到單納米級的3D結(jié)構(gòu)。該方案最初在由歐盟第七框架計劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造（SNM）”項目中得到證明，該方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統(tǒng)，以生產(chǎn)具有3D結(jié)構(gòu)的主模板用于納米壓印光刻系統(tǒng)和EVG。目標(biāo)應(yīng)用：EVG和SwissLitho最初將以聯(lián)合解決方案為目標(biāo)，以開發(fā)衍射光學(xué)元件和其他相關(guān)光學(xué)組件，以支持光子學(xué)，數(shù)據(jù)通信，增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實和其他...
光刻技術(shù)是將二維圖案轉(zhuǎn)印到平坦基板上的方法?？梢酝ㄟ^以下兩種基本方法來實現(xiàn)圖案化：直接寫入圖案，或通過掩模版/印章轉(zhuǎn)移圖案。設(shè)定的圖案可以幫助生成襯底上的特征，或者可以由沉積的圖案形成特征。通過計算機(jī)輔助設(shè)計（CAD）定義圖案模式。多數(shù)情況下，這些特征是使用抗蝕劑形成的，可以使用光（使用光致抗蝕劑），電子束（使用電子束抗蝕劑）或通過物理壓?。ú恍枰刮g劑，也叫納米壓?。﹣矶x圖案特征。圖案的特征可以被轉(zhuǎn)移到一個基板，再進(jìn)行蝕刻，電鍍或剝離。1.技術(shù)領(lǐng)域根據(jù)所需的特征，有幾種不...